ASML 879-0084-002產(chǎn)品說明

ASML 879-0084-002是一款用于半導(dǎo)體光刻設(shè)備的電光模塊（Electro Optics Module），主要用于光刻機(jī)中的光學(xué)系統(tǒng)，支持高精度的圖案成像和檢測(cè)。

產(chǎn)品參數(shù)

型號(hào)：879-0084-002

用途：電光模塊，用于光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)

兼容性：適用于ASML高端光刻機(jī)系統(tǒng)，支持多種工藝節(jié)點(diǎn)。

工作波長(zhǎng)：根據(jù)光刻機(jī)的具體配置，可能支持多種波長(zhǎng)。

環(huán)境要求：需在潔凈室環(huán)境中使用，通常要求恒溫恒濕。

優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)

高精度成像：支持高精度的圖案成像和檢測(cè)，確保光刻過程的高精度。

實(shí)時(shí)校準(zhǔn)機(jī)制：能夠?qū)崟r(shí)校準(zhǔn)，提高良品率。

兼容性：適用于7納米及以下工藝節(jié)點(diǎn)，兼容EUV（極紫外光）技術(shù)。

穩(wěn)定性：經(jīng)過嚴(yán)格測(cè)試，具有出色的穩(wěn)定性和可靠性。

應(yīng)用領(lǐng)域和應(yīng)用案例

半導(dǎo)體制造：用于光刻機(jī)中的光學(xué)系統(tǒng)，支持高精度光刻。

先進(jìn)制程：適用于7納米及以下工藝節(jié)點(diǎn)。

研發(fā)與測(cè)試：在半導(dǎo)體研發(fā)和測(cè)試環(huán)境中，支持高精度圖案檢測(cè)。

競(jìng)品對(duì)比

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：ASML 879-0084-002在成像精度和檢測(cè)速度方面優(yōu)于一些競(jìng)品。

兼容性：與ASML光刻機(jī)系統(tǒng)無縫集成，減少了兼容性問題。

維護(hù)成本：模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和更換，降低了長(zhǎng)期使用成本。

選型建議

工藝需求匹配：根據(jù)具體的光刻工藝需求，選擇合適的電光模塊。

技術(shù)支持：建議選擇能夠提供長(zhǎng)期技術(shù)支持和維護(hù)服務(wù)的供應(yīng)商。

環(huán)境要求：確保設(shè)備安裝在符合要求的環(huán)境中，避免高溫、高濕度和灰塵。

注意事項(xiàng)

專業(yè)安裝與維護(hù)：建議由經(jīng)過培訓(xùn)的專業(yè)技術(shù)人員進(jìn)行安裝和維護(hù)。

定期校準(zhǔn)：定期進(jìn)行設(shè)備校準(zhǔn)，確保長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

環(huán)境控制：使用環(huán)境應(yīng)保持清潔，維持恒定的溫度和濕度

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